MIKASA米卡薩旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)
日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社 日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗鈽機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗怖機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗鈽機(jī)，真空泵 半導(dǎo)體制造工序中的Mikasa半導(dǎo)體設(shè)備
晶園、洗滌**晶園表面的臟污及
各種金屬離子、成膜
在高溫?cái)U(kuò)散爐中，形成、表面氧化膜
電路圖案設(shè)計(jì)、運(yùn)用CAD制作布局、布線
設(shè)計(jì)圖。制作光掩膜
將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)
光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶
圓表面，形成厚度均一的薄膜。
旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路
圖案。
光刻機(jī)(P13~P15)
MIKASA米卡薩旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)可選組件
顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
顯影裝置(P17. 18)、蝕刻
通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。
蝕刻裝置(P19)
離子注入/濺射
向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密閉型)
●MS-B300 (密閉型)
日本MIKASA光刻機(jī)
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀
去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置
●ED-1200
●ED-3000
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對(duì)研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議。與客戶共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務(wù)。
日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機(jī)
MS-B100
MS-B150
MS-B200
MS-B300
MS-B200
密閉型MS-B300
密閉型MA-20
MA-10B
MA-60F
M-2LF
M-1S
AD-1200
AD-3000
ED-1200
各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)、AND愛安得(電子天平)、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥) HOYA光源,KURABO脫泡機(jī),USHIO牛尾照度計(jì),Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚(膜厚儀、粒度儀),Hitachi日立(掃描電鏡),MIKASA米卡薩(旋涂設(shè)備、顯影)、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克(檢查光源)、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子(光學(xué)膜厚儀)、KOSAKA小坂(臺(tái)階儀)、HORIBA堀場(chǎng)儀器(分析儀)、SIBATA柴田科學(xué)(環(huán)境測(cè)定)、TORAY東麗濃度儀(氧氣分析儀)、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、CEDAR思達(dá)。
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產(chǎn)品型號(hào)：MS-B150/MS-B100
更新時(shí)間：2025-07-14
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